아래 첨부자료들에 이어 한 가지 추가합니다.
삼성전자 기흥사업장 김관식 안전그룹장이 "그린삼성웹진" 2007년 여름호에 쓴 <반도체공정 작업환경 실시간 모니터링 구축사례>라는 글이며, 주요 내용을 아래에 간략히 발췌하였습니다. 요약하자면 2006년에 와서야 "반도체공정 사용 화학물질 중 60%는 유해성", "냄새 발생시 대피 판별 기준 없음", "냄새 발생시 60초 이내 확산", "유해성 물질을 포함할 경우 작업자 건강 저하" 등을 배경으로 유기화합물의 저농도 만성 노출에 대한 모니터링 시스템 도입의 필요성이 대두되어 모의 테스트를 했으며, 그 결과 "8시간 가중 평균치"로는 낮음에도 불구하고 "순간 농도치가 관리기준을 상회"하는 경우도 있다는 점을 확인하였고, 2007년 여름에 비로소 이러한 시스템이 라인에 도입되었다는 내용입니다.
이 자료를 통해 유해물질에 대한 저농도 만성 노출의 위험에 대해 2007년 이전에는 감시조차 이루어지지 않았으며, 아무리 작업환경측정에서 8시간 평균 농도가 허용기준 이하였다 하더라도 '순간 고농도 노출'의 위험이 반도체 공정에서 발생할 수 있음을 확인할 수 있습니다.
삼성전자는 이번 공장 공개를 통해 1) 지난 2년 반 동안 실시간 모니터링 대상으로 삼은 화학물질들의 목록과 2) 모니터링 결과 데이터를 공개할 필요가 있습니다.
전체 내용은 링크 혹은 첨부파일을 참조하십시오.
도입 배경
반도체 웨이퍼를 제조하기 위해서는 각종 가스 및 유기화합물(액상 화학물질)을 사용하고 있으며, 이 중에는 화재폭발의 위험성뿐만 아니라 인체에 유해한 독성가스 및 유기화합물이 사용된다. 이러한 이유로 제조라인 내부에는 가스의 누출을 감시하고 지속적인 관리를 위해 가스감지시스템(Safety Monitoring Control System)이 구축되어 있으며, 화재폭발, 작업자 흡입중독 등의 안전사고를 사전예방 하는데 활용하고 있다. 그러나 유기화합물의 경우 별도의 감지시스템이 구축되어 있지 않으며, 대신 산업안전보건법상의 작업환경측정을 통해 관리 및 개선을 추진하고 있다.삼성전자의 경우 작업환경측정 대상 유해인자의 노출수준이 법적 기준(TWA-TLV)의 10%이하로 매우 낮은 수준이나, 저농도 만성적 유기화합물 냄새로 인한 작업자의 건강보호와 사고성 누출시 발생원의 파악 및 개선조치를 위해서 작업환경 실시간 모니터링 시스템 도입의 필요성이 대두되었으며, 2006년 6개월의 Demo test를 통해 금년 6월 라인에 적용하였다.
![](https://t1.daumcdn.net/cfile/cafe/1265A1054BC56BDB01)
적용결과
6개월간의 Demo test와 현장에 적용한 분석결과를 통해 라인 내 악취 원인과 확산 농도를 파악할 수 있었다. 냄새의 주성분은 주로 유기화합물로서 설비이상 및 설비 보수 작업 등 다양한 원인에 의해 발생되는 것으로 평가되었으며, 순간농도치가 자체 관리 기준(TWA - TLV)을 상회하는 경우도 있었다. 하지만 8시간 가중 평균치로는 낮은 수준이었다. 또한 유기화합물 냄새 감지기를 Multi sampling 방식으로 적용한 결과, 라인 전지역의 냄새 및 유해물질의 배출양상을 실시간(Real time)으로 모니터링하고 노출농도 수준 및 인체유해성을 판단하여 비상 대응할 수 있게 되었다.
![](https://t1.daumcdn.net/cfile/cafe/19252C054BC56BE4A5)
출처 : 삼성지구환경연구소 그린삼성 웹진 2007년 여름호
http://www.greensamsung.com/GreenSamsung/gu_jsp/webzine/200708/15.html
반도체공정 모니터링시스템(2007[1].여름호_그.hwp