'반도체 핵심 세정 장비' 중 유출 시도 11명 기소 01200204 동아일보

'머리카락 1만분의 1 굵기' 제거삼성전자 자회사 기술 도용중국계 회사 대표 등 2명 구속검 '중업체, 한에 회사 만들어 범행'삼성전자 자회사가 개발한 반도체 세정 장비 제조 기술을 도용해 만든 장비를 중국에 수출하려고 한일당이 재판에 넘겨졌다.수원지검 방위산업.산업기술범죄수사부(부장 검사 박경택)는 산업기술보호법  위반,부정경쟁방지법 위반(국외누설), 업무상 배임 혐의로 삼성전자 엔지니어 출신의 중국계 회사 대표 A씨(55)와설계팀장 B씨(43) 등 2명을 구속 기소했다고 19일 밝혔다.A씨가 운영한 회사 등 법인 3곳과 회사 직원 등 관련자 9명도 같은 혐의로 불구속 기소했다.검찰에 따르면 A씨 일당은 2021년 10월부터 지난해 4월까지 삼성전자 자회사 세메스 출신 퇴사자들과 함께세정 장비 도면과 공정 레시피등을 활용한 장비를 개발.제작해 중국에 수출하려 한 혐의를 받는다.A씨 일당이 도용한 반도체 세정 기술은 반도체 제조 과정에서 발생하는 머리카락의 1만분의 1 굵기의이물질을 반도체 훼손 없이 정밀하게 제거하는 초고난도 기술로, 산업통상자원부에서 국가핵심기술로 지정된 바 있다.검찰 조사 결과  A씨는 2018년 삼성전자 등 반도체 업체에서 근무했던 엔지니어들을 영입해세정 장비 관련 사업을 목적으로 한 업체를 설립했다.2021년 11월에는 중국 반도체 장비업체의 직접 투자를 받는 조건으로 업체가 보유한 모든 인력과기술을 중국 회사의 국내 법인사에 양도하도록 한 78억2000만원 규모의 계약도 체결한 것으로 파악됐다.A씨 일당은 각 근무 업체에서 퇴사할 무렵 수집한 불법 유출 자료 등을 바탕으로 세정 장비 개발을 착수했고,시제품 1대를 중국에 실제로 수출한 것으로 확인됐다.검찰은 지난해 1월 국가정보원으로부터 정보를 입수해 수사에 착수했고,지난 해 4월 압수수색 과정에서 A씨가 2대의 양산장비를 제작 중인 것을 확인하고 생산을 중단시켰다.이들은 '자체 개발 기술'이라며 범행을 부인했지만, 검찰이 회사 자료에 남겨진  '디지털 지문'을 확보하면서기술 도용 사실이 밝혀졌다.검찰 관계자는 '과거 기술 유출은 대부분 외국 기업이 고액 연봉을 내세워 엔지니어들을 스카우트하는 방식이었는데,이번 수사로 외국 기업이 직접 한국에 기술 유출 거점 업체를 설립해 운영하며국가 핵심 기술을 유츌한 범행이 확인됐다'고 설명했다.                                                           이승우 기자