삼성전자 - 노광 1위 ASML에 1.1조원 투자

[불스탁분석팀]

 

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노광(露光)장비 전세계 1위 업체인 ASML에 1조 1,000억원 투자
-8월 27일 삼성전자는 네덜란드 AMSL에 약 7억 7,900만유로(1조 1,000억원)을 투자한다고 공시. ASML 지분 3%를 약 5억 300만유로에 인수하고 차세대 EUV(Extreme Ultraviolet: 극자외선) 리소그래피(노광) 공동 연구개발(R&D)에 약 2억 7,600억유로를 향후 5년간 투자할 계획이라고 밝힘
- ASML은 글로벌 장비 1위 업체이며 미세공정에서 핵심인 리소그래피 시장에서 MS 78%를 차지하여 독점적인 위치에 있으며 2012년 7월 비메모리 1위 인텔도 ASML 지분 15%를 41억달러(약 4조 6,000억원)에 인수했고, 2012년 8월 파운드리 1위 TSMC도 지분 5%를 410억 대만달러(약 1조 5,800억원)에 인수

차세대 핵심 장비인 EUV 리소그래피 장비에 관심을 가지는 이유
-메모리 1위 삼성전자, 비메모리 1위 인텔, 파운드리 1위 TSMC가 왜 ASML에 지분 투자를 했을까? 현재 반도체 회로 선폭은2X nm에 진입했지만 1X nm 공정 전환 한계에 직면했고, R&D 투자 비용이 과대하게 들어가고 있으며, 1X nm 공정에 진입하기 위해서는 EUV 노광 장비가 필수적이기 때문임
-노광 장비는 500~1,500억원의 고가이며 포토 레지스트 물질로 덮인 웨이퍼에 반도체 회로 패턴을 빛으로 쏘는 반도체 핵심장비이며 전체 공정 중 60%의 시간이 걸리며 총 생산원가에서 35%의 비중을 차지. EUV 노광기는 2X~3X nm에서 사용하는이머전 노광(더블 패터닝) 대비 파장(13.5nm)이 짧게 회로를 그릴 수 있으며 450mm 웨이퍼에서도 핵심 장비
투자의견 BUY, 목표주가 160만원 유지

-인텔, TSMC에 이어 ASML에 지분 투자를 하여 반도체 1X nm 및 이하 공정을 경쟁사들보다 빨리 전환하여 메모리, 비메모리뿐만 아니라 파운드리에서 기술 경쟁력을 확보하겠다는 전략
-갤럭시S3가 판매금지 될지도 모른다는 불확실성 확대로 주가는 전일대비 7.5% 하락했지만 SK하이닉스와 미국 램버스 소송에서도 1심 배심원 평결을 미국 2심 법원에서 번복한 경우도 있기 때문에 25일 판결로 인해 리스크를 확대할 필요는 없다고 판단

 

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