솔브레인(036830): 탐방속보 - 한국증권 유종우
반도체 미세화 공정 확대에 따른 신규성장 동력 확보: 1) HSN(High Selectivity Nitride) 식각액
- 주요 반도체 고객사의 미세화 공정 확대로 HSN(High Selectivity Nitride) 식각액의 수요 증가 전망
- 회로선 폭이 미세해진 웨이퍼의 식각공정에서 기존 식각액 제품을 사용할 경우 선택비가 낮아지는 문제가 발생, 회로패턴의 불량률이 높아짐
cf)선택비: 식각하고자 하는 박막(질화막)의 식각속도와 식각을 원하지 않는 박막(산화막)의 식각속도의 비율, 식각공정의 정확도와 속도를 나타내는 지표
- HSN 식각액은 선택비가 높아 DRAM 20나노 중반, NAND 10나노급 공정에서부터 적용될 예정
- 동사는 4년 전부터 HSN 식각액 개발을 준비했으며 2012년 상반기부터 삼성전자와 하이닉스로 양산공급이 이루어지고 있음.
- 향후, 3D기술이 적용되는 고객사의 라인에도 해당 제품의 공급이 예상되어 수요는 더욱 증가할 전망
- 식각장비 기술 방식도 현재 배치(Batch)타입에서 싱글(Single)타입으로 전환 진행 중. 싱글타입의 도입은 식각액 소모량을 배치타입 대비 증가시키기 때문에 기존 제품(불산/인산계)을 포함한 전체 식각액 공급물량이 증가할 전망(하이닉스는 싱글타입 전환율 50%, 삼성전자는 95%수준)
반도체 미세화 공정 확대에 따른 신규성장 동력 확보: 2) 실리콘 웨이퍼 세정용 이온수장비
- 미세화 공정 내 파티클(particle) 제거용 전해이온수장비 사업 개시
- 웨이퍼 표면의 파티클 문제는 30나노급 이하부터 발생하는데, 기존에 세정수로 쓰이던 용존수를 대체해 이온수가 적용되고 있음(이온수의 파티클 제거 효율은 95%이상)
- 동사는 세정용 이온수를 생성시켜주는 이온수장비를 현재 삼성전자LSI와 NAND flash라인으로 공급 중, 장비와 함께 소모품인 셀(cell)도 같이 공급, 셀의 라이프타임은 1년으로 지속적인 교체수요 발생
- 2012년 이온수장비의 매출액은 130억원 규모, 2013년 매출액은 전년 대비 2배 이상을 목표
기존 사업부문도 지속적인 성장 - 주요 사업부문 업데이트
- 삼성 AMOLED폰 판매 호조로 thin glass 물량 지속 증가 전망, 2013년 생산능력 추가 증설 계획
- 2013년 말레이시아에 2차전지 전해액 공장 설립 계획, 삼성SDI의 말레이시아 중소형 2차전지 라인으로의 공급을 위한 설비투자
- A123(파산법인)의 인수 후보로 JCS(Johnson Controls and Saft)가 부상하고 있음. JCS 역시 솔브레인MI의 주고객사라는 점에서 A123 파산의 부정적인 영향은 제한적. 하지만, 대형 2차전지 소재사업은 전방산업의 회복이 우선되어야 하기 때문에 아직은 중장기적인 성장동력으로 판단됨
Implication & Valuation
- 전방산업의 메모리 capex감소에도 불구, 동사의 반도체소재 부문은 1)반도체 공정 미세화와 2)삼성전자LSI 생산능력 증설 효과로 지속 성장 전망(한국투자증권 추정 YoY 17% 증가 추정)
- 2013년 매출액 6,635억원(+13% YoY), 영업이익 1,240억원(+17% YoY) 전망
(vs. 회사는 반도체 신제품 효과 등을 반영해 본사기준 매출액 가이던스 7,000억원 제시)
- 현 주가는 2013년 이익기준 P/E 8.5배로 여전히 낮은 수준
- 매수의견 및 목표주가 65,000원(2013F EPS에 목표 P/E 12배 적용) 유지