프레온가스 대체물질 개발 증가세

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프레온가스 대체물질 개발 증가세

내국인보다 외국인 출원 13배 많아…관련 산업계 피해 우려

환경오염 등의 이유로 오존파괴물질인 프레온과 수소화염화불화탄소(HCFC) 사용이 제한되고 있는 가운데 냉장고 냉매를 비롯한 반도체 및 LCD공정 등의 세정용으로 사용되는 대체물질 수소화불화탄소 및 과불화탄소에 대한 특허출원이 증가세를 보이고 있는 것으로 나타났다.

최근 특허청 발표에 따르면 오존층에 전혀 영향을 미치지 않는 대체물질인 수소화불화탄소(HFC, hydrofluorocarbon) 및 과불화탄소(PFC, perfluorocarbon)의 제조방법 및 제품에 관한 특허출원이 지난 2000년 13건에서 2006년에 35건으로 증가한 것으로 나타났다. 특히 2006년 들어 급격한 출원의 증가세를 보이고 있는 추세다.

반면 오존파괴물질인 프레온가스 및 수소화염화불화탄소(HCFC, hydrochlorofluorocarbon)의 제조 및 제품에 대한 특허출원은 2004년 17건에서 2006년 12건으로 줄어드는 등 지속적으로 감소세를 보이고 있다.

출원인별로 살펴보면 지난해 내국인 특허출원건수는 3건에 불과했으나 외국인은 38건에 달해 무려 13배 많은 출원 건수를 기록해 외국에서는 이미 오존층 파괴물질의 생산 및 사용 규제에 대비한 대체물질 개발과 이를 이용한 제품 개발이 활발히 진행되고 있음을 증명했다.

대체물질에 관련된 외국인의 국내 특허출원 증가는 곧 국내 관련 산업계의 직접적인 피해는 물론 국가적 손실로 다가올 것으로 예상 된다.

정부는 이같은 피해를 막기 위해 1992년부터 오존파괴물질 생산·수입업자의 부담금을 재원으로 ‘특정물질 사용합리화기금’을 조성해 왔으며 올해에는 총 84억원의 기금예산을 확보해 대체물질의 생산 및 이용에 관한 시설대체자금 융자, 대체물질기술개발 출연 및 대체물질기술개발 기술 지도사업 등을 지원할 계획이다.

가스저널