ASML의 노광장비..

[땡초도사]

ASML(Advanced Semiconductor Materials Lithography)은 반도체 제조에 사용되는 첨단 노광 장비의 주요 공급업체 중 하나로, 그들의 장비는 첨단 반도체 제조 공정에서 필수적입니다. ASML의 주요 노광 장비는 다음과 같은 기술과 모델로 구성되어 있습니다:

### 1. **DUV (Deep Ultraviolet) 노광 장비**
DUV 노광 장비는 193nm 파장의 심자외선(DUV) 광원을 사용하여 반도체 웨이퍼에 회로 패턴을 형성합니다.
   - **TWINSCAN 플랫폼**: DUV 기술 기반의 주요 플랫폼입니다.
     - **XT 시리즈**: 고성능, 고생산성을 제공하는 장비.
     - **NXT 시리즈**: 더 높은 정밀도와 더 빠른 처리 속도를 제공하는 장비.

### 2. **EUV (Extreme Ultraviolet) 노광 장비**
EUV 노광 장비는 13.5nm 파장의 극자외선(EUV) 광원을 사용하여 매우 미세한 회로 패턴을 형성합니다. 이는 최첨단 반도체 공정에서 핵심적인 역할을 합니다.
   - **TWINSCAN NXE 시리즈**: EUV 기술을 사용하는 주요 플랫폼입니다.
     - **NXE:3400B**: 업계에서 널리 사용되는 EUV 장비로 높은 해상도와 생산성을 제공합니다.
     - **NXE:3600D**: 더 높은 생산성, 향상된 해상도, 그리고 더 높은 웨이퍼 처리 속도를 제공합니다.

### 3. **High-NA EUV (High Numerical Aperture EUV) 노광 장비**
High-NA EUV 장비는 기존 EUV 기술보다 더 높은 해상도를 제공하며, 미래의 첨단 반도체 노드에서 중요한 역할을 할 것으로 기대됩니다.
   - **EXE 시리즈**: High-NA 기술을 사용하는 주요 플랫폼입니다.
     - **EXE:5000 시리즈**: High-NA 기술을 사용하여 매우 높은 해상도를 제공하는 장비.

### 4. **i-Line 및 KrF (Krypton Fluoride) 노광 장비**
이 장비들은 더 긴 파장을 사용하며, 구형 공정 노드에서도 여전히 사용됩니다.
   - **PAS 시리즈**: i-Line과 KrF 기술을 사용하는 주요 플랫폼입니다.

### 요약

- **DUV 노광 장비**: 주로 193nm 파장을 사용하며 TWINSCAN 플랫폼을 포함합니다.
- **EUV 노광 장비**: 13.5nm 파장을 사용하며 TWINSCAN NXE 시리즈로 대표됩니다.
- **High-NA EUV 노광 장비**: 미래의 고해상도 반도체 제조를 위한 EXE 시리즈.
- **i-Line 및 KrF 노광 장비**: 더 긴 파장을 사용하여 구형 공정 노드에 적용.

ASML의 노광 장비는 반도체 산업의 발전에 필수적인 기술을 제공하며, 다양한 파장과 해상도로 다양한 반도체 제조 공정을 지원합니다.