오늘 추적 60분에 반도체 산재 내용에서

[해민]

추적 60분을 봤는데..

그냥 생각나는 것 몇자 적어 봅니다.

얼핏 보니,  화학약품을 다루는 Wet station이 Open 된 사진을 보여 주던데,

(Open 됐다는 의미는 윗쪽에 캐이스가 없다는 뜻입니다) 만약 삼성 반도체 라인에서

예전에(지금은 그런 구조를 사용하지 않습니다) 사용했다면 화학약품에 자주 노출될

가능성이 충분이 있다고 생각됩니다.

일반적으로

Wet station은 윗쪽 캐이스가 있고, 문이 있습니다. 캐이스 안쪽은 압력이 낮고 바깥쪽은

압력이 높아서 안쪽의 화학 약품의 가스들이 바깥쪽으로 나오지 못하게 하고 있습니다.

 문을 열기전에 반드시 그 압력을  check하고, 구글, 앞치마, 안전장갑을 착용하고 작업을

해야 하지요.  그런데 방송에서는 캐이스가 없는 Wet station을 보여 주더군요..

또하나, 더미 웨이퍼(dummy wafer)를 문제 삼는 장면이 나오는데, 이 건 좀 아니다 싶습니다.

방송에서 보여주는

더미 웨이퍼는 수천도의 온도가 올라가는 장비에 들어가는데, 들어가기 전에

많은 세정(Cleaning)과정을 거칩니다.  설사 불순물이 묻었다고 하더라도(불순물이 있으면 큰일 나지요. 반도체

가 오염되니까..) 수천도의 온도에 다 타서 없어진다고 보면 됩니다.  더미웨이퍼든 그냥 웨이퍼든

문제가 될 수 있다면 세정과정에 화학약품의 노출정도겠지요.  세정이라고 해서 깨끗한 물에 세정하는 것이 아니라

각종 화학약품에 담그고 하는 반복되는 작업을 말합니다. 주로  RCA cleaning이라는 방법에 따라 세정을 많이

합니다.  RCA cleaning에 대해서는 아래 사이트에 잘 나와 있네요

RCA-1 cleaning

http://blog.daum.net/microsystem/4?srchid=BR1http%3A%2F%2Fblog.daum.net%2Fmicrosystem%2F4

RCA- 2 cleaning

 http://blog.daum.net/microsystem/5?srchid=BR1http%3A%2F%2Fblog.daum.net%2Fmicrosystem%2F5

[반올림]

황유미, 이숙영씨가 2인 1조로 일했던 3라인 3베이 작업은 4~5개의 수조에 화학물질이 담겨있고 이 작업대에 노동자가 직접 웨이퍼가 담긴 런을 넣었다 빼었다를 반복하는 작업입니다. 이러한 작업대 앞에는 커버가 설치되어 있지 않았습니다. 5라인이후 라인에는 버가 있었다고 하고, 1~3라인은 커버가 없었죠.

[반올림]

더미웨이퍼의 문제는 단순하지 않습니다. 위험성에 대한 논란이 충분히 있습니다. 물론 추적60분에서 그 내용을 이해하지 못하여 충분히 다루지 못한 것입니다.

[해민]

더미웨이퍼 문제는 저도 잘 모르겠습니다. 소개 부탁합니다. 참, CTC 책도 얼마전에 구입했는데.. 잘 읽어 보겠습니다.